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Résultat de recherche 2005 2019

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2019

Using ammonia for reactive magnetron sputtering, a possible alternative to HiPIMS?

RASSINFOSSE, L., Colaux, J., PILLOUD, D., NOMINE, A., Tumanov, N., Lucas, S., Pireaux, J-J. & Haye, E., 2019, Dans : Applied Surface Science.

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2018

Fast, asymmetric and nonhomogeneous clearance of SiC nanoaerosol assessed by micro-particle-induced x-ray emission

Lozano, O., Colaux, J. L., Laloy, J., Alpan, L., Dogné, J. M. & Lucas, S., 1 janv. 2018, Dans : Nanomedicine. 13, 2, 12 p.

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Silicon carbide
silicon
X-Rays
X rays
Spatial distribution
Chromium
Nitrides
Magnetron sputtering
nitrides
Sputtering
2016

Building Materials from Colloidal Nanocrystal Arrays: Evolution of Structure, Composition, and Mechanical Properties upon the Removal of Ligands by O2 Plasma

Shaw, S., Colaux, J. L., Hay, J. L., Peiris, F. C. & Cademartiri, L., 26 oct. 2016, Dans : Advanced materials. 28, 40, p. 8900-8905 6 p.

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Building Materials from Colloidal Nanocrystal Arrays: Preventing Crack Formation during Ligand Removal by Controlling Structure and Solvation

Shaw, S., Yuan, B., Tian, X., Miller, K. J., Cote, B. M., Colaux, J. L., Migliori, A., Panthani, M. G. & Cademartiri, L., 26 oct. 2016, Dans : Advanced materials. 28, 40, p. 8892-8899 8 p.

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Infiltration of ZnO in mesoporous silicon by isothermal Zn annealing and oxidation

De Melo, C., Santana, G., Torres-Costa, V., Behar, M., Dias, J. F., Colaux, J. L., Contreras-Puente, G. & De Melo, O., 2016, Dans : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 5, 2, p. P6-P11

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Porous silicon
Silicon
Infiltration
Annealing
Oxidation

Optics-free, plasma-based lithography in inorganic resists made up of nanoparticles

Shaw, S., Miller, K. J., Colaux, J. L. & Cademartiri, L., 1 juil. 2016, Dans : Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS. 15, 3, 031607.

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Nanocrystals
Lithography
Optics
nanocrystals
lithography

Optics-free lithography on colloidal nanocrystal assemblies

Shaw, S., Miller, K. J., Colaux, J. L. & Cademartiri, L., 2016, Advances in Patterning Materials and Processes XXXIII. SPIE, Vol 9779. 97791J

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Nanocrystals
Lithography
assemblies
Optics
nanocrystals

Thin film depth profiling by ion beam analysis

Jeynes, C. & Colaux, J. L., 7 nov. 2016, Dans : Analyst. 141, 21, p. 5944-5985 42 p.

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Depth profiling
Rutherford backscattering spectroscopy
Spectrometry
Ion beams
Spectrum Analysis

Toward a Better Understanding of the Influence of the Hydrocarbon Precursor on the Mechanical Properties of a-C: H Coatings Synthesized by a Hybrid PECVD/PVD Method

Thiry, D., De Vreese, A., Renaux, F., Colaux, J., Lucas, S., Guinet, Y., Paccou, L., Bousser, E. & Snyders, R., 1 mars 2016, Dans : Plasma Processes and Polymers . 13, 3, p. 316-323 8 p.

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Physical vapor deposition
Plasma enhanced chemical vapor deposition
Hydrocarbons
hydrocarbons
mechanical properties
2015

Accurate electronics calibration for particle backscattering spectrometry

Colaux, J. L. & Jeynes, C., 7 avr. 2015, Dans : Analytical Methods. 7, 7, p. 3096-3104 9 p.

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Backscattering
Spectrometry
Electronic equipment
Calibration
Depth profiling

Certified ion implantation fluence by high accuracy RBS

Colaux, J. L., Jeynes, C., Heasman, K. C. & Gwilliam, R. M., 7 mai 2015, Dans : Analyst. 140, 9, p. 3251-3261 11 p.

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Rutherford backscattering spectroscopy
Ion implantation
Spectrometry
spectrometry
Spectrum Analysis

Development of nanotopography during SIMS characterization of thin films of Ge1-xSnx alloy

Secchi, M., Demenev, E., Colaux, J. L., Giubertoni, D., Dell'Anna, R., Iacob, E., Gwilliam, R. M., Jeynes, C. & Bersani, M., 30 nov. 2015, Dans : Applied Surface Science. 356, p. 422-428 7 p.

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Secondary ion mass spectrometry
Sputtering
Thin films
Topography
Ions

On the traceably accurate voltage calibration of electrostatic accelerators

Colaux, J., Terwagne, G. & Jeynes, C., 15 avr. 2015, Dans : Nuclear instruments and methods in physics research B. 349, p. 173-183 11 p.

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Electrostatic accelerators
accelerators
Calibration
electrostatics
Electric potential

Physicochemical characteristics and occupational exposure to coarse, fine and ultrafine particles during building refurbishment activities

Azarmi, F., Kumar, P., Mulheron, M., Colaux, J. L., Jeynes, C., Adhami, S. & Watts, J. F., 21 août 2015, Dans : Journal of Nanoparticle Research. 17, 8, 343.

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Demolition
Ion beams
Drilling
X ray photoelectron spectroscopy
Scanning electron microscopy
particle emission
silicon carbides
lungs
rats
minerals
2014

Benchmarking experiments for the proton backscattering on 23Na, 31P and natS up to 3.5 MeV

Paneta, V., Colaux, J. L., Gurbich, A. F., Jeynes, C. & Kokkoris, M., 1 juin 2014, Dans : Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 328, p. 1-7 7 p.

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Benchmarking
Backscattering
Spectrometry
backscattering
Protons

Electrical properties of amorphous chalcogenide/silicon heterojunctions modified by ion implantation

Fedorenko, Y. G., Hughes, M. A., Colaux, J. L., Jeynes, C., Gwilliam, R. M., Homewood, K. P., Yao, J., Hewak, D. W., Lee, T. H., Elliott, S. R., Gholipour, B. & Curry, R. J., 2014, Optical Components and Materials XI. SPIE, Vol 8982. 898213

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Ion Implantation
Heterojunction
Electrical Properties
Amorphous silicon
Ion implantation

High accuracy traceable Rutherford backscattering spectrometry of ion implanted samples

Colaux, J. L. & Jeynes, C., 7 janv. 2014, Dans : Analytical Methods. 6, 1, p. 120-129 10 p.

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Rutherford backscattering spectroscopy
Spectrometry
Silicon
Ions
Scattering
2013
2 Downloads (Pure)
Bioactivity
Carbon
Coatings
Plasma deposition
Osteoblasts

Carbon coatings with low secondary electron yield

Costa Pinto, P., Calatroni, S., Neupert, H., Letant-Delrieux, D., Edwards, P., Chiggiato, P., Taborelli, M., Vollenberg, W., Yin-Vallgren, C., Colaux, J. L. & Lucas, S., 9 avr. 2013, Dans : Vacuum. 98, p. 29-36 8 p.

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Carbon
coatings
Coatings
Electrons
carbon
2012

Investigation of the growth mechanisms of a–CHx coatings deposited by pulsed reactive magnetron sputtering

Lopez Santos, M. C., Colaux, J., Lucas, S. & Gonzalez, J. C., 7 juin 2012, Dans : Journal of physical chemistry. C. 116, 22, p. 12017-12026 10 p.

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Reactive sputtering
Magnetron sputtering
magnetron sputtering
methylidyne
coatings

Solid phase epitaxial re-growth of Sn ion implanted germanium thin films

Giubertoni, D., Demenev, E., Gupta, S., Jestin, Y., Meirer, F., Gennaro, S., Iacob, E., Pepponi, G., Pucker, G., Gwilliam, R. M., Jeynes, C., Colaux, J. L., Saraswat, K. C. & Bersani, M., 2012, Ion Implantation Technology 2012 - Proceedings of the 19th International Conference on Ion Implantation Technology. Vol 1496. p. 103-106 4 p.

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solid phases
germanium
ion implantation
thin films
ions
2011

First results of the surface modification of multiwall carbon nanotubes by a hollow cathode discharge

Rigaux, C., Tichelaar, F., Louette, P., Colaux, J. & Lucas, S., 25 juil. 2011, Dans : Surface and Coatings Technology. 205, SUPPL. 2, p. S601-S604

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Carbon Nanotubes
hollow cathodes
Surface treatment
Carbon nanotubes
Cathodes

Growth mechanisms involved in the synthesis of smooth and microtextured films by acetylene magnetron discharges

De Vriendt, V., Miladinovic, S. M., Colaux, J., Maseri, F., Wilkins, C. L. & Lucas, S., 19 juil. 2011, Dans : Langmuir. 27, 14, p. 8913-8922 10 p.

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Acetylene
acetylene
synthesis
Mass spectrometry
mass spectroscopy

Sputter deposited transition metal nitrides as back electrode for CIGS solar cells

Mahieu, S., Leroy, W. P., Van Aeken, K., Wolter, M., Colaux, J., Lucas, S., Abadias, G., Matthys, P. & Depla, D., 1 mars 2011, Dans : Solar Energy. 85, 3, p. 538-544 7 p.

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Nitrides
Transition metals
Solar cells
Fluxes
Electrodes
54 Downloads (Pure)

Study of carbon nitride compounds synthesised by co-implantation of 13C and 14N in copper at different temperatures

Colaux, J. L., Louette, P., Colomer, J-F., Edmondson, P. D., Donnelly, S. E. & Terwagne, G., 15 mars 2011, Dans : Materials Chemistry and Physics . 126, 1-2, p. 337-343 7 p.

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Accès ouvert
File
carbon nitrides
Carbon nitride
Copper
implantation
Nuclear reactions
2009
89 Downloads (Pure)
Accès ouvert
File
Depth profiling
Carbon nitride
Ion implantation
implantation
X ray photoelectron spectroscopy
2007
70 Downloads (Pure)

Cross section measurements of the reactions induced by deuteron particles on 13C

Colaux, J., Thome, T. & Terwagne, G., 2007, Dans : Nuclear instruments and methods in physics research B. 254, 1, p. 25-29 5 p.

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File
Nuclear reactions
nuclear reactions
deuterons
cross sections
Depth profiling
34 Downloads (Pure)

Formation of carbon nitride nanospheres by ion implantation

Thome, T., Colaux, J., Colomer, J-F., Bertoni G., G. & Terwagne, G., 2007, Dans : Materials Chemistry and Physics . 103, 2-3, p. 290-294 5 p.

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File
carbon nitrides
Carbon nitride
Nanospheres
Ion implantation
Nanocapsules
2006
8 Downloads (Pure)

Depth profiling of carbon and nitrogen in copper using nuclear reactions

Thome, T., Colaux, J. & Terwagne, G., 2006, Dans : Nuclear instruments and methods in physics research B. 249, 1-2, p. 377-380 4 p.

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File
Nuclear reactions
Depth profiling
nuclear reactions
Nitrogen
Copper
268 Downloads (Pure)
File
carbon nitrides
Carbon nitride
Ion implantation
Copper
implantation
2005
11 Downloads (Pure)

Simultaneous depth profiling of the 12C and 13C elements in different samples using (d,p) reactions

Colaux, J. & Terwagne, G., 2005, Dans : Nuclear instruments and methods in physics research B. 240, 1-2, p. 429-433 5 p.

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File
Depth profiling
Nuclear reactions
Ion implantation
Particle accelerators
Protons