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  • 2023

    Procédé de dépôt d'un revêtement sur un substrat au moyen de procédés de dépôt physique en phase vapeur (pvd) et revêtement obtenu par ledit procédé

    Lucas, S. (Inventeur), Haye, E. (Inventeur) & Chavee, L. (Inventeur), 8 juin 2023, Brevet n ° WO2023099757A1, 12 févr. 2022

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  • 2018

    METHOD FOR FUNCTIONALISING NANOPARTICLES

    Titre traduit de la contribution: PROCÉDÉ PERMETTANT DE FONCTIONNALISER DES NANOPARTICULESBonifazi, D. (Inventeur), Corvaglia, V. (Inventeur), Marega, R. (Inventeur) & Lucas, S. (Inventeur), 27 juin 2018, CIB n ° B82Y 5/ 00 A N, Brevet n ° EP3338806, Date de priorité 21 déc. 2016, Numéro de priorité EP20160205708

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  • METHOD FOR FUNCTIONALIZING NANOPARTICLES

    Titre traduit de la contribution: PROCÉDÉ POUR LA FONCTIONNALISATION DE NANOPARTICULESBonifazi, D. (Inventeur), Corvaglia, V. (Inventeur), Marega, R. (Inventeur) & Lucas, S. (Inventeur), 28 juin 2018, CIB n ° B82Y 5/ 00 A N, Brevet n ° WO2018114447, Date de priorité 21 déc. 2016, Numéro de priorité EP20160205708

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  • 2012

    INSTALLATION AND METHOD FOR THE FUNCTIONALIZATION OF PARTICULATE AND POWDERED PRODUCTS

    Titre traduit de la contribution: INSTALLATION ET PROCÉDÉ POUR LA FONCTIONNALISATION DE PRODUITS PARTICULAIRES ET PULVÉRULENTSLuizi,, F. (Inventeur), Minea, Tiberiu, M. (Inventeur), Lucas,, S. (Inventeur), Amadou,, J. (Inventeur), Usoltseva,, A. (Inventeur) & Rigaux,, C. (Inventeur), 29 nov. 2012, CIB n ° C01B 31/ 02 A I, Brevet n ° WO2012160041, Date de priorité 23 mai 2011, Numéro de priorité EP20110167044

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  • 2008

    Neutron generating device for boron neutron capture therapy

    Titre traduit de la contribution: Dispositif de génération de neutrons pour la thérapie de capture des neutrons de boreJongen,, Y. (Inventeur), Stichelbaut,, F. (Inventeur), Cambriani,, A. (Inventeur), Lucas,, S. (Inventeur), Bodart,, F. (Inventeur) & Burdakov,, A. (Inventeur), 5 mars 2008, CIB n ° G21G 4/ 02 A I, Brevet n ° EP1895819, Date de priorité 29 août 2006, Numéro de priorité EP20060119730

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  • 2007

    RADIOACTIVE DEVICE

    Titre traduit de la contribution: NANOSTRUCTURE RADIOACTIFLucas,, S. (Inventeur), 3 oct. 2007, CIB n ° A61K 41/ 00 A I, Brevet n ° EP1838354, Date de priorité 19 déc. 2005, Numéro de priorité WO2005BE00185

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  • RADIOTHERAPY DEVICE AND METHOD

    Titre traduit de la contribution: DISPOSITIF ET PROCEDE DE RADIOTHERAPIELucas,, S. (Inventeur) & Nuttens,, V. (Inventeur), 24 oct. 2007, CIB n ° A61N 5/ 10 A I, Brevet n ° EP1846103, Date de priorité 19 déc. 2005, Numéro de priorité WO2005BE00187

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  • 2003

    Method and device for generating radioisotopes from a target

    Titre traduit de la contribution: Procédé et dispositif pour la production de radio-isotopes à partir d'une cibleLucas,, S. (Inventeur) & Bricault,, R. (Inventeur), 25 juin 2003, CIB n ° G21G 1/ 10 A I, Brevet n ° EP1321948, Date de priorité 21 déc. 2001, Numéro de priorité EP20010870288

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  • 2001

    Process for formation of a coating on a substrate

    Vanden Brande, P. (Inventeur), Lucas, S. (Inventeur) & Weymeersch, A. (Inventeur), 25 oct. 2001, CIB n ° C23C 14/ 56 A I, Brevet n ° US2001032782, Date de priorité 31 janv. 2001, Numéro de priorité US20010774241

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  • 1997

    Method and apparatus for cleaning a metal substrate

    Titre traduit de la contribution: Procédé et dispositif pour le décapage d'un substrat métalliqueVanden Brande,, P. (Inventeur), Lucas,, S. (Inventeur) & Weymeersch,, A. (Inventeur), 25 juin 1997, CIB n ° C23G 5/ 00 A I, Brevet n ° EP0780485, Date de priorité 20 déc. 1995, Numéro de priorité BE19950001053

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  • Process and apparatus for coating a substrate

    Titre traduit de la contribution: Procédé et dispositif pour la formation d'un revêtement sur un substratVanden Brande,, P. (Inventeur), Lucas,, S. (Inventeur) & Weymeersch,, A. (Inventeur), 25 juin 1997, CIB n ° C23C 14/ 56 A I, Brevet n ° EP0780486, Date de priorité 20 déc. 1995, Numéro de priorité BE19950001052

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  • 1995

    Method and apparatus for coating a substrate by sputtering.

    Titre traduit de la contribution: Procédé et dispositif pour la formation d'un revêtement sur un substrat par pulvérisation cathodique. Vanden Brande, P. (Inventeur), Lucas, S. (Inventeur), Winand, R. (Inventeur), Weymeersch, A. (Inventeur) & Renard, L. (Inventeur), 6 déc. 1995, CIB n ° C23C 14/ 56 A I, Brevet n ° EP0685571, Date de priorité 2 juin 1994, Numéro de priorité BE19940000552

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  • 1994

    Process for forming a film on a substrate by reactive sputtering.

    Titre traduit de la contribution: Procédé pour la formation d'un revêtement sur un substrat par pulvérisation cathodique réactive. Winand, R. (Inventeur), Lucas, S. (Inventeur), Vanden Brande, P. (Inventeur), Weymeersch, A. (Inventeur) & Renard, L. (Inventeur), 19 oct. 1994, CIB n ° H01L 21/ 203 A I, Brevet n ° EP0620290, Date de priorité 16 avr. 1993, Numéro de priorité BE19930000378

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