Résumé
Procédé et dispositif pour le décapage d'un substrat métallique consistant à créer à proximité de la surface (3) du substrat (4) à nettoyer un plasma (2) dans un mélange d'hydrogène, de composés hydrogénés et/ou d'un gaz inerte, tel que de l'argon, de manière à générer des radicaux et/ou des ions, ce substrat (4) étant polarisé négativement par rapport à une anode (5) agencée en regard de la surface à décaper (3) permettant ainsi aux radicaux et/ou ions d'agir sur cette dernière.
Titre traduit de la contribution | Procédé et dispositif pour le décapage d'un substrat métallique |
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langue originale | Anglais |
Numéro de brevet | EP0780485 |
CIB | C23G 5/ 00 A I |
Date de priorité | 20/12/95 |
Etat de la publication | Publié - 25 juin 1997 |