Method and apparatus for cleaning a metal substrate

Titre traduit de la contribution: Procédé et dispositif pour le décapage d'un substrat métallique

Pierre Vanden Brande, (Inventeur), Stephane Lucas, (Inventeur), Alain Weymeersch, (Inventeur)

    Résultats de recherche: brevetBrevet

    Résumé

    Procédé et dispositif pour le décapage d'un substrat métallique consistant à créer à proximité de la surface (3) du substrat (4) à nettoyer un plasma (2) dans un mélange d'hydrogène, de composés hydrogénés et/ou d'un gaz inerte, tel que de l'argon, de manière à générer des radicaux et/ou des ions, ce substrat (4) étant polarisé négativement par rapport à une anode (5) agencée en regard de la surface à décaper (3) permettant ainsi aux radicaux et/ou ions d'agir sur cette dernière. 
    Titre traduit de la contributionProcédé et dispositif pour le décapage d'un substrat métallique
    langue originaleAnglais
    Numéro de brevetEP0780485
    CIBC23G 5/ 00 A I
    Date de priorité20/12/95
    Etat de la publicationPublié - 25 juin 1997

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  • Contient cette citation

    Vanden Brande, P., Lucas, S., & Weymeersch, A. (1997). CIB n ° C23G 5/ 00 A I. Method and apparatus for cleaning a metal substrate. (Brevet n ° EP0780485).