Sealing of porous low-k dielectrics: an ellipsometric porosimetry study of UV-O3 oxidized SiOxCy films

Caroline Whelan, Quoc Le, Francesca Cecchet, Alessandra Satta, Jean-Jacques Pireaux, Petra Rudolf, Karen Maex

Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticleRevue par des pairs

langue originaleAnglais
Pages (de - à)F8-F10
journalElectrochemical and Solid State Letters
Volume7
Etat de la publicationPublié - 2004

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