Sealing of porous low-k dielectrics: an ellipsometric porosimetry study of UV-O3 oxidized SiOxCy films

Caroline Whelan, Quoc Le, Francesca Cecchet, Alessandra Satta, Jean-Jacques Pireaux, Petra Rudolf, Karen Maex

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Empreinte digitale

Examiner les sujets de recherche de « Sealing of porous low-k dielectrics: an ellipsometric porosimetry study of UV-O3 oxidized SiOxCy films ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.