Multitechnique characterisation of Al2O3 thin layers deposited on SiO2/Si surface by atomic layer chemical vapour deposition

Laurent Houssiau, Roumen Vitchev, Jean-Jacques Pireaux, Thierry Conard, H. Bender, O. Richard, P. Mack, J. Wolstenholme, Chr. Defranoux

Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticle

langue originaleAnglais
Pages (de - à)36-38
Nombre de pages3
journalProceedings of the AVS Fourth International Conference on Microelectronics and Interfaces
Etat de la publicationPublié - 2003

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