Caractérisation de la diffusion de 74Ge+, co-implanté avec un excès de 28Si+ dans une couche de dioxyde de silicium sur un substrat de silicium

    Student thesis: Master typesMaster in Physics

    Abstract

    Date of AwardSep 2014
    Original languageFrench
    Awarding Institution
    • University of Namur
    SupervisorGuy Terwagne (Jury)

    Cite this

    '