Caractérisation de la diffusion de 74Ge+, co-implanté avec un excès de 28Si+ dans une couche de dioxyde de silicium sur un substrat de silicium

    Student thesis: Master types › Master in Physics

    Date of AwardSept 2014
    Original languageFrench
    Awarding Institution
    • University of Namur
    SupervisorGuy Terwagne (Jury)

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