Caractérisation de la diffusion de 74Ge+, co-implanté avec un excès de 28Si+ dans une couche de dioxyde de silicium sur un substrat de silicium

Student thesis: Master typesMaster in Physics

Abstract

Date of AwardSep 2014
LanguageFrench
Awarding Institution
  • University of Namur
SupervisorGuy Terwagne (Jury)

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Caractérisation de la diffusion de <sup>74</sup>Ge<sup>+</sup>, co-implanté avec un excès de <sup>28</sup>Si<sup>+</sup> dans une couche de dioxyde de silicium sur un substrat de silicium
Nelis, A. (Author). Sep 2014

Student thesis: Master typesMaster in Physics