ToF-SIMS depth profiling of Hf and Al composition variations in ultrathin mixed HfO2/Al2O3oxides

L. Houssiau, R.G. Vitchev, T. Conard, W. Vandervorst, H. Bender

Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticleRevue par des pairs

Empreinte digitale

Examiner les sujets de recherche de « ToF-SIMS depth profiling of Hf and Al composition variations in ultrathin mixed HfO2/Al2O3oxides ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.

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