Issues associated to rare earth silicide integration in ultra thin FD SOI Schottky barrier nMOSFETs

G. Larrieu, D.A. Yarekha, Emmanuel Dubois, N. Breil, Nicolas Reckinger, Xiaohui Tang, A. Halimaoui

Résultats de recherche: Contribution à un événement scientifique (non publié)Résumé

langue originaleAnglais
étatPublié - 2009
Evénement215th Electrochemical Society Meeting - San Francisco, États-Unis
Durée: 24 mai 200929 mai 2009

Comité scientifique

Comité scientifique215th Electrochemical Society Meeting
PaysÉtats-Unis
La villeSan Francisco
période24/05/0929/05/09

Citer ceci

Larrieu, G., Yarekha, D. A., Dubois, E., Breil, N., Reckinger, N., Tang, X., & Halimaoui, A. (2009). Issues associated to rare earth silicide integration in ultra thin FD SOI Schottky barrier nMOSFETs. Résumé de 215th Electrochemical Society Meeting, San Francisco, États-Unis.
Larrieu, G. ; Yarekha, D.A. ; Dubois, Emmanuel ; Breil, N. ; Reckinger, Nicolas ; Tang, Xiaohui ; Halimaoui, A. / Issues associated to rare earth silicide integration in ultra thin FD SOI Schottky barrier nMOSFETs. Résumé de 215th Electrochemical Society Meeting, San Francisco, États-Unis.
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Larrieu, G, Yarekha, DA, Dubois, E, Breil, N, Reckinger, N, Tang, X & Halimaoui, A 2009, 'Issues associated to rare earth silicide integration in ultra thin FD SOI Schottky barrier nMOSFETs', 215th Electrochemical Society Meeting, San Francisco, États-Unis, 24/05/09 - 29/05/09.

Issues associated to rare earth silicide integration in ultra thin FD SOI Schottky barrier nMOSFETs. / Larrieu, G.; Yarekha, D.A.; Dubois, Emmanuel; Breil, N.; Reckinger, Nicolas; Tang, Xiaohui; Halimaoui, A.

2009. Résumé de 215th Electrochemical Society Meeting, San Francisco, États-Unis.

Résultats de recherche: Contribution à un événement scientifique (non publié)Résumé

TY - CONF

T1 - Issues associated to rare earth silicide integration in ultra thin FD SOI Schottky barrier nMOSFETs

AU - Larrieu, G.

AU - Yarekha, D.A.

AU - Dubois, Emmanuel

AU - Breil, N.

AU - Reckinger, Nicolas

AU - Tang, Xiaohui

AU - Halimaoui, A.

PY - 2009

Y1 - 2009

M3 - Abstract

ER -

Larrieu G, Yarekha DA, Dubois E, Breil N, Reckinger N, Tang X et al.. Issues associated to rare earth silicide integration in ultra thin FD SOI Schottky barrier nMOSFETs. 2009. Résumé de 215th Electrochemical Society Meeting, San Francisco, États-Unis.