Issues associated to rare earth silicide integration in ultra thin FD SOI Schottky barrier nMOSFETs

G. Larrieu, D.A. Yarekha, Emmanuel Dubois, N. Breil, Nicolas Reckinger, Xiaohui Tang, A. Halimaoui

Résultats de recherche: Contribution à un événement scientifique (non publié) › Résumé › Revue par des pairs

langue originale	Anglais
Etat de la publication	Publié - 2009
Evénement	215th Electrochemical Society Meeting - San Francisco, États-Unis Durée: 24 mai 2009 → 29 mai 2009

Comité scientifique	215th Electrochemical Society Meeting
Pays/Territoire	États-Unis
La ville	San Francisco
période	24/05/09 → 29/05/09

Contient cette citation

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author = "G. Larrieu and D.A. Yarekha and Emmanuel Dubois and N. Breil and Nicolas Reckinger and Xiaohui Tang and A. Halimaoui",

year = "2009",

language = "English",

note = "215th Electrochemical Society Meeting ; Conference date: 24-05-2009 Through 29-05-2009",

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TY - CONF

T1 - Issues associated to rare earth silicide integration in ultra thin FD SOI Schottky barrier nMOSFETs

AU - Larrieu, G.

AU - Yarekha, D.A.

AU - Dubois, Emmanuel

AU - Breil, N.

AU - Reckinger, Nicolas

AU - Tang, Xiaohui

AU - Halimaoui, A.

PY - 2009

Y1 - 2009

M3 - Abstract

T2 - 215th Electrochemical Society Meeting

Y2 - 24 May 2009 through 29 May 2009

ER -