langue originale | Anglais |
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Pages (de - à) | 108-110 |
Nombre de pages | 3 |
journal | Applied Physics Letters |
Volume | 59 |
Numéro de publication | 1 |
Etat de la publication | Publié - 1991 |
Hydrocarbon reaction with HF-cleaned Si(100) and effects on metal-oxide-semiconductor device quality
S.R. KASI, Michael Liehr, Paul Thiry, Hervé DALLAPORTA, Michael OFFENBERG
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