Hydrocarbon reaction with HF-cleaned Si(100) and effects on metal-oxide-semiconductor device quality

S.R. KASI, Michael Liehr, Paul Thiry, Hervé DALLAPORTA, Michael OFFENBERG

    Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticle

    langue originaleAnglais
    Pages (de - à)108-110
    Nombre de pages3
    journalApplied Physics Letters
    Volume59
    Numéro de publication1
    Etat de la publicationPublié - 1991

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