Projets par année
Empreinte digitale Examinez les sujets de recherche où Pavel Moskovkin est actif. Ces libellés de rubriques sont le fruit de recherches menées par cette personne. Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.
- 5 Profils similaires
Magnetron sputtering
Ingénierie et Science des Matériaux
magnetron sputtering
Physique & Astronomie
Kinetics
Ingénierie et Science des Matériaux
simulation
Physique & Astronomie
Thin films
Ingénierie et Science des Matériaux
Graphite
composés chimiques
kinetics
Physique & Astronomie
sputtering
Physique & Astronomie
Réseau
Récente collaboration externe au niveau du pays. Découvrez tous les détails en cliquant sur les points.
Projets 2013 2015
- 1 Terminé
Doped graphene : multiscale simulations
Henrard, L., Lucas, S., Moskovkin, P. & Chanier, T.
1/07/13 → 30/06/15
Projet: Recherche
Résultat de recherche 2010 2018
Simulations of oxide films growth deposited by magnetron sputtering and evaluation of their morphology and optical properties
Tonneau, R., Moskovkin, P. & Lucas, S., 2018, (Non publié). 1 p.Résultats de recherche: Contribution à un événement scientifique (non publié) › Poster
File
oxide films
magnetron sputtering
optical properties
evaluation
vacuum deposition
TiOx deposited by magnetron sputtering: a joint modelling and experimental study
Tonneau, R., Moskovkin, P., Pflug, A. & Lucas, S., 20 avr. 2018, Dans : Journal of Physics D: Applied Physics. 51, 19, 19 p., 195202.Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revue › Article
Magnetron sputtering
magnetron sputtering
Film growth
simulation
Sputter deposition
Wide range investigation of duty cycle and frequency effects on bipolar magnetron sputtering of chromium nitride
Haye, E., Colaux, J. L., Moskovkin, P., Pireaux, J. J. & Lucas, S., 25 sept. 2018, Dans : Surface and Coatings Technology. 350, p. 84-94 11 p.Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revue › Article
Chromium
Nitrides
Magnetron sputtering
nitrides
Sputtering
Synthesis of nanostructured Ti thin films by combining glancing angle deposition and magnetron sputtering: A joint experimental and modeling study
Dervaux, J., Moskovkin, P., Cormier, P-A., Douhéret, O., Konstantinidis, S., Lazzaroni, R., Lucas, S. & Snyders, R., 31 août 2017, Dans : Thin Solid Films. 636, p. 644-657 14 p.Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revue › Article
Accès ouvert
File
Magnetron sputtering
magnetron sputtering
sputtering
Thin films
Molecules
Growth of nitrogen-doped graphene on copper: Multiscale simulations
Gaillard, P., Schoenhalz, A. L., Moskovkin, P., Lucas, S. & Henrard, L., 1 févr. 2016, Dans : Surface Science. 644, p. 102-108 7 p.Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revue › Article
Graphite
Graphene
Copper
graphene
Nitrogen
Activités 2017 2019
CrN electrodes deposited by magnetron sputtering for electrochemical capacitors: from dense films to nanostructured CrN on chip micro-supercapacitors
Emile Haye (Orateur), Amine Achour (Orateur), Abdelouadoud GUERRA (Orateur), Fatsah MOULAI (Orateur), Sorin VIZIREANU (Orateur), Toufik HADJERSI (Orateur), Rabah Boukherroub (Orateur), Adriano PANEPINTO (Orateur), G. Dinescu (Orateur), Thierry BROUSSE (Orateur), Pavel Moskovkin (Orateur), Jean-Jacques Pireaux (Orateur), Stéphane Lucas (Orateur)mai 2019
Activité: Types de discours ou de présentation › Présentation orale
PSE 2018 : Tutorial 1
Martin Evrard (Participant), Antoine Fauroux (Participant), Jérôme Muller (Participant), Pavel Moskovkin (Participant)16 sept. 2018
Activité: Types de Participation ou d'organisation d'un événement › Participation à un atelier/workshop, un séminaire, un cours
On Micro-textured DLC coatings toward lubricant-free metal forming
Martin Evrard (Participant), Antoine Fauroux (Participant), Pavel Moskovkin (Participant), Jérôme Muller (Participant)16 mai 2018
Activité: Types de Participation ou d'organisation d'un événement › Participation à un atelier/workshop, un séminaire, un cours
Computational design and discovery of new materials: Challenges and opportunities
Martin Evrard (Participant), Antoine Fauroux (Participant), Pavel Moskovkin (Participant), Jérôme Muller (Participant)17 mai 2018
Activité: Types de Participation ou d'organisation d'un événement › Participation à un atelier/workshop, un séminaire, un cours
NanoWal Day
Martin Evrard (Poster), Antoine Fauroux (Poster), Romain Tonneau (Poster), Cécile Bopp (Orateur), Stéphane Lucas (Orateur), Jérôme Muller (Participant), Pavel Moskovkin (Participant)25 mai 2018
Activité: Types de Participation ou d'organisation d'un événement › Participation à un atelier/workshop, un séminaire, un cours