Erbium silicide growth in the presence of residual oxygen

N. Reckinger, X. Tang, S. Godey, E. Dubois, A. Aszcz, J. Ratajczak, A. Vlad, C.A. Duu, J.-P. Raskin

    Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticleRevue par des pairs

    Empreinte digitale

    Examiner les sujets de recherche de « Erbium silicide growth in the presence of residual oxygen ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.

    Material Science