Influence of the water vapor concentration into the reactive plasma during the deposition of chromium oxynitrides layers on steel

Traduction de l'intitulé de la thèse: Influence of the water vapor concentration into the reactive plasma during the deposition of chromium oxynitrides layers on steel
  • Said Agouram

    Student thesis: Doc typesDocteur en Sciences

    Résumé

    Le but de ce travail est d’étudier l’effet de la vapeur d’eau contenue dans le plasma sur la composition et la vitesse de dépôt des couches minces d’oxynitrures de chrome déposées par pulvérisation cathodique magnétron réactive avec l’air contenant différentes teneurs en vapeur d’eau (humidité relative). Les techniques d’analyses par faisceau d’ions énergétiques : RBS et réactions nucléaires nous ont permis de déterminer les concentrations relatives des éléments déposés. Les profils d’hydrogène et d’azote ont été déterminés par RNRA et Tof- SIMS. La liaison chimique a été identifiée par LEEIXS et XPS. Les mesures XPS ont dévoilé la présence d’une phase autre que Cr, CrN, Cr2O3 et CrO2 ; cette nouvelle phase possède une stoechiométrie (CrO2)3-N. La teneur en Cr et ses composés varie en fonction du flux et de l’humidité relative de l’air. En mode métallique de la pulvérisation cathodique, la stoechiométrie Cr2O3 est majoritaire en coexistence avec de faibles teneurs et CrN, CrO2 et (CrO2)3-N alors qu’en mode composé, c’est la stoechiométrie CrO2 qui prédomine.
    la date de réponse2003
    langue originaleAnglais
    L'institution diplômante
    • Universite de Namur
    SuperviseurFranz BODART (Promoteur), Guy Terwagne (Jury), ROBERT SPORKEN (Jury), Stephane Lucas (Jury) & Patrick Bertrand (Jury)

    mots-clés

    • LEEIXS
    • XPS
    • RNRA
    • RBS
    • Air
    • Oxynitrure de chrome
    • Pulvérisation réactive
    • Tof-SIMS

    Contient cette citation

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