X-ray photoelectron spectroscopy characterization of high-k dielectric Al2O3 and HfO2 layers deposited on SiO2/Si surface

Roumen Vitchev, Jean-Jacques Pireaux, Thierry Conard, H. Bender, J. Wolstenholme, Chr. Defranoux

Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticle

langue originaleAnglais
Pages (de - à)21-25
Nombre de pages5
journalApplied Surface Science
Volume235
Etat de la publicationPublié - 2004

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