Use of reactive sputtering model to predict working point conditions of two different TiNx sputtering devices

Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticle

langue originaleAnglais
Pages (de - à)28-32
Nombre de pages5
journal"Revue ""le vide : science, technique et applications"""
Volume284
Etat de la publicationPublié - 1997

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