Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications

J. Ratajczak; A. Laszcz; A. Czerwinski; J. Katcki; F. Phillipp; P. A. Van Aken; Nicolas Reckinger; E. Dubois

Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications

J. Ratajczak, A. Laszcz, A. Czerwinski, J. Katcki, F. Phillipp, P. A. Van Aken, Nicolas Reckinger, E. Dubois

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langue originale	Anglais
titre	13th Conference on Electron Microscopy of Solids
Etat de la publication	Publié - 2009

Contient cette citation

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Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications. / Ratajczak, J.; Laszcz, A.; Czerwinski, A. et al.
13th Conference on Electron Microscopy of Solids. 2009.

Résultats de recherche: Contribution dans un livre/un catalogue/un rapport/dans les actes d'une conférence › Article dans les actes d'une conférence/un colloque

TY - GEN

T1 - Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications

AU - Ratajczak, J.

AU - Laszcz, A.

AU - Czerwinski, A.

AU - Katcki, J.

AU - Phillipp, F.

AU - Van Aken, P. A.

AU - Reckinger, Nicolas

AU - Dubois, E.

PY - 2009

Y1 - 2009

M3 - Conference contribution

BT - 13th Conference on Electron Microscopy of Solids

ER -