langue originale | Français |
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Pages (de - à) | 441-446 |
Nombre de pages | 6 |
journal | Surface Science |
Volume | 331-333 |
Etat de la publication | Publié - 1995 |
The chemical etching mechanism of H-terminated Si(111) surfaces in different pH solutions studied by HREELS
Yan HE, Paul Thiry, Li Ming Luo Yu, Roland Caudano
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