TEM characterization of polysilicon and silicide fin fabrication processes of FinFETs

J. Ratajczak, A. ŁAszcz, A. Czerwinski, J. Katcki, X. Tang, N. Reckinger, D.A. Yarekha, G. Larrieu, E. Dubois

    Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueRésumé d'une communication scientifiqueRevue par des pairs

    Empreinte digitale

    Examiner les sujets de recherche de « TEM characterization of polysilicon and silicide fin fabrication processes of FinFETs ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.

    Material Science