Study of the electronic properties and depth profiles of buried and near-surface silicon nitride layers produced by ion implantation

Andreas Markwitz, M. Arps, H. Baumann, Guy Demortier, E.F. Krimmel, K. Bethge

    Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticle

    langue originaleAnglais
    Pages (de - à)506-514
    Nombre de pages9
    journalNuclear instruments and methods
    VolumeB124
    Etat de la publicationPublié - 1997

    Contient cette citation