Sealing of porous low-k dielectric materials : UV-03 oxidised CVD silicon oxy carbide films

Caroline Whelan, Francesca Cecchet, Toan Le, Alessandra Satta, Jean-Jacques Pireaux, Karen Maex, Petra Rudolf

Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticle

langue originaleAnglais
Pages (de - à)201-210
Nombre de pages10
journalPhysicalia Mag.
Volume24
Numéro de publication3
Etat de la publicationPublié - 2002

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