Removal of plasma-modified low-k layer using dilute HF: influence of concentration

Q.T. LE, M.R. BAKLANOV, E. KESTERS, Ammar Azioune, H. STRUYF, W. BOULLART, Jean-Jacques Pireaux, S. VANHAELEMEERSCH

Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revue › Article

langue originale	Anglais
Pages (de - à)	F21-F24
journal	Electrochemical and Solid State Letters
Volume	8
Numéro de publication	7
Etat de la publication	Publié - 2005

Contient cette citation

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TY - JOUR

T1 - Removal of plasma-modified low-k layer using dilute HF: influence of concentration

AU - LE, Q.T.

AU - BAKLANOV, M.R.

AU - KESTERS, E.

AU - Azioune, Ammar

AU - STRUYF, H.

AU - BOULLART, W.

AU - Pireaux, Jean-Jacques

AU - VANHAELEMEERSCH, S.

PY - 2005

Y1 - 2005

M3 - Article

VL - 8

SP - F21-F24

JO - Electrochemical and Solid State Letters

JF - Electrochemical and Solid State Letters

IS - 7

ER -