Oxygen Partial Pressure and Annealing Temperature Effects on the formation of Sputtered WO3 Films

Carla Bittencourt Papaleo Montes, R. Landers, E. Llobet, X. Correig, J. Calderer

    Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticle

    langue originaleAnglais
    journalSemiconductor Science and Technology
    Volume7
    Etat de la publicationPublié - 2002

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