On the relationship between the plasma characteristics: the microstructure and the optical properties of reactively sputtered TiO2 thin films
M. Michiels, A. Hemberg, Thomas Godfroid, O. Douheret, J. L. Colaux, P. Moskovkin, S. Lucas, A. Caillard, A. L. Thomann, P. Laha, H. Terryn, M. Voué, A. Panepinto, R. Snyders, S. Konstantinidis
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Empreinte digitale
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