Metallic source/drain for advanced MOS architectures: from material engineering to device integration

E. Dubois, G. Larrieu, N. Breil, R. Valentin, F. Danneville, D.A. Yarekha, C. Krzeminski, E Lampin, J.-M. Droulez, Nicolas Reckinger, Xiaohui Tang, A. Halimaoui, R. Rengel, E. Pascual, A. Pouydebasque, X. Wallart, SYLVIE GODEY, J. Ratajczak, A. Laszcz, J. KatckiJean-Pierre Raskin, G Dambrine, A Cros, T. Skotnicki

Résultats de recherche: Contribution à un événement scientifique (non publié)Résumé

langue originaleAnglais
Etat de la publicationPublié - 2009
EvénementSINANO-NANOSIL Workshop Silicon-based CMOS and Beyond-CMOS Nanodevices - Athènes, Grèce
Durée: 18 sept. 2009 → …

Comité scientifique

Comité scientifiqueSINANO-NANOSIL Workshop Silicon-based CMOS and Beyond-CMOS Nanodevices
PaysGrèce
La villeAthènes
période18/09/09 → …

Contient cette citation

Dubois, E., Larrieu, G., Breil, N., Valentin, R., Danneville, F., Yarekha, D. A., Krzeminski, C., Lampin, E., Droulez, J-M., Reckinger, N., Tang, X., Halimaoui, A., Rengel, R., Pascual, E., Pouydebasque, A., Wallart, X., GODEY, SYLVIE., Ratajczak, J., Laszcz, A., ... Skotnicki, T. (2009). Metallic source/drain for advanced MOS architectures: from material engineering to device integration. Résumé de SINANO-NANOSIL Workshop Silicon-based CMOS and Beyond-CMOS Nanodevices, Athènes, Grèce.