Metallic source/drain architecture for advanced MOS technology: an overview of METAMOS results

E. Dubois, G. Larrieu, N. Breil, R. Valentin, F. Danneville, D.A. Yarekha, Nicolas Reckinger, X. Tang, A. Halimaoui, R. Rengel, E. Pascual, A. Pouydebasque, X. Wallart, S. Godey, J. Ratajczak, A. Laszcz, J. Katcki, J.-P. Raskin, G. Dambrine, A. CrosT. Skotnicki

Résultats de recherche: Contribution dans un livre/un catalogue/un rapport/dans les actes d'une conférenceArticle dans les actes d'une conférence/un colloque

langue originaleAnglais
titre8th Symposium Diagnostics & Yield Advanced Silicon Devices and Technologies for ULSI Era
Etat de la publicationPublié - 2009

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Dubois, E., Larrieu, G., Breil, N., Valentin, R., Danneville, F., Yarekha, D. A., Reckinger, N., Tang, X., Halimaoui, A., Rengel, R., Pascual, E., Pouydebasque, A., Wallart, X., Godey, S., Ratajczak, J., Laszcz, A., Katcki, J., Raskin, J-P., Dambrine, G., ... Skotnicki, T. (2009). Metallic source/drain architecture for advanced MOS technology: an overview of METAMOS results. Dans 8th Symposium Diagnostics & Yield Advanced Silicon Devices and Technologies for ULSI Era