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Résumé
The use of thermally activated delayed fluorescence (TADF) emitters and emitters that show preferential horizontal orientation of their transition dipole moment (TDM) are two emerging strategies to enhance the efficiency of OLEDs. We present the first example of a liquid crystalline multi-resonance TADF (MR-TADF) emitter, DiKTa-LC. The compound possesses a nematic liquid crystalline phase between 80 °C and 110 °C. Importantly, the TDM of the spin-coated film shows preferential horizontal orientation, with an anisotropy factor, a, of 0.28, which is preserved in doped poly(vinylcarbazole) films. Green-emitting (λEL=492 nm) solution-processed OLEDs based on DiKTa-LC showed an EQEmax of 13.6 %. We thus demonstrate for the first time how self-assembly of a liquid crystalline TADF emitter can lead to the so-far elusive control of the orientation of the transition dipole in solution-processed films, which will be of relevance for high-performance solution-processed OLEDs.
langue originale | Anglais |
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Numéro d'article | e202218911 |
journal | Angewandte Chemie. International edition |
Volume | 62 |
Numéro de publication | 16 |
Les DOIs | |
Etat de la publication | Publié - 11 avr. 2023 |
Empreinte digitale
Examiner les sujets de recherche de « Mesogenic Groups Control the Emitter Orientation in Multi-Resonance TADF Emitter Films** ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.Projets
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Renouvellement d’équipements pour le Consortium des Equipements de Calcul Intensif (CECI)
Bontempi, G. (Responsable du Projet), CHAMPAGNE, B. (CoPI), Geuzaine , C. (CoPI), RIGNANESE, G. M. (CoPI) & Lazzaroni, R. (CoPI)
1/01/22 → 31/12/23
Projet: Recherche
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IMAGINE: Influence des effets MAGgnétiques sur la conversion de spIN dans les matériaux organiques pi-conjugués émetteurs de lumière : Développement d’une approche de modélisation multiéchelle atomistique
Olivier, Y. (Responsable du Projet)
1/01/21 → 1/12/22
Projet: Recherche
Équipement
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Plateforme Technologique Calcul Intensif
Champagne, B. (!!Manager)
Plateforme technologique Calcul intensifEquipement/installations: Plateforme technolgique