Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology

Emmanuel Dubois, G. Larrieu, C. Krzeminski, X. Baie, Xiaohui Tang, Nicolas Reckinger, Vincent Bayot, E Robilliart, B. Froment, J. Ka̧tcki

Résultats de recherche: Contribution à un événement scientifique (non publié)Résumé

langue originaleAnglais
étatPublié - 2004
EvénementIntegration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology - Athènes, Grèce
Durée: 4 févr. 20046 févr. 2004

Comité scientifique

Comité scientifiqueIntegration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology
PaysGrèce
La villeAthènes
période4/02/046/02/04

Citer ceci

Dubois, E., Larrieu, G., Krzeminski, C., Baie, X., Tang, X., Reckinger, N., ... Ka̧tcki, J. (2004). Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology. Résumé de Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology, Athènes, Grèce.
Dubois, Emmanuel ; Larrieu, G. ; Krzeminski, C. ; Baie, X. ; Tang, Xiaohui ; Reckinger, Nicolas ; Bayot, Vincent ; Robilliart, E ; Froment, B. ; Ka̧tcki, J. / Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology. Résumé de Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology, Athènes, Grèce.
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note = "Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology ; Conference date: 04-02-2004 Through 06-02-2004",

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Dubois, E, Larrieu, G, Krzeminski, C, Baie, X, Tang, X, Reckinger, N, Bayot, V, Robilliart, E, Froment, B & Ka̧tcki, J 2004, 'Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology', Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology, Athènes, Grèce, 4/02/04 - 6/02/04.

Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology. / Dubois, Emmanuel; Larrieu, G.; Krzeminski, C.; Baie, X.; Tang, Xiaohui; Reckinger, Nicolas; Bayot, Vincent; Robilliart, E; Froment, B.; Ka̧tcki, J.

2004. Résumé de Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology, Athènes, Grèce.

Résultats de recherche: Contribution à un événement scientifique (non publié)Résumé

TY - CONF

T1 - Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology

AU - Dubois, Emmanuel

AU - Larrieu, G.

AU - Krzeminski, C.

AU - Baie, X.

AU - Tang, Xiaohui

AU - Reckinger, Nicolas

AU - Bayot, Vincent

AU - Robilliart, E

AU - Froment, B.

AU - Ka̧tcki, J.

PY - 2004

Y1 - 2004

M3 - Abstract

ER -

Dubois E, Larrieu G, Krzeminski C, Baie X, Tang X, Reckinger N et al.. Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology. 2004. Résumé de Integration of low Schottky barrier source/drain for advanced MOS technology, Athènes, Grèce.