Influence of substrate temperature on titanium oxynitride thin films prepared by reactive sputtering

J.M. Chappé, N. Martin, J.F. Pierson, Guy Terwagne, J. Lintymer, J. Gavoille, J. Takadoum

    Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticle

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    langue originaleAnglais
    Pages (de - à)29-38
    Nombre de pages10
    journalApplied Surface Science
    Volume225
    Etat de la publicationPublié - 2004

    Contient cette citation

    Chappé, J. M., Martin, N., Pierson, J. F., Terwagne, G., Lintymer, J., Gavoille, J., & Takadoum, J. (2004). Influence of substrate temperature on titanium oxynitride thin films prepared by reactive sputtering. Applied Surface Science, 225, 29-38.