Influence of silicon dangling bonds on germanium thermal diffusion within SiO2 glass

David Barba, R.S. Cai, Julien Demarche, Y.Q. Wang, Guy Terwagne, F. Rosei, François Martin, Guy G. Ross

    Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticleRevue par des pairs

    langue originaleAnglais
    journalApplied Physics Letters
    Volume104
    Numéro de publication111901
    Etat de la publicationAccepté/sous presse - 17 mars 2014

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