In Plasma ion beam analysis of polymer layer and adsorbed H monolayer etching
- Louis Charles Fortier
- , Martin Chicoine
- , Simon Chouteau
- , Mathilde Clausse
- , Émile Lalande
- , Alexandre W. Lussier
- , Sjoerd Roorda
- , Luc Stafford
- , Guy Terwagne
- , François Schiettekatte
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