Growth and Characterization of Chromium Oxynitride Thin Films Prepared Using Reactive Unbalanced Magnetron Sputtering in Presence of Air as Reactive Gas

Said Agouram, Guy Terwagne, Franz Bodart (Collaborateur)

    Résultats de recherche: Contribution dans un livre/un catalogue/un rapport/dans les actes d'une conférenceChapitre (revu par des pairs)

    langue originaleAnglais
    titreMetallic oxynitride thin films by reactive sputtering and related deposition methods: processes, properties and applications
    rédacteurs en chefeBooks Bentham
    Pages133-162
    Nombre de pages30
    ISBN (Electronique)978-1-60805-157-4
    Etat de la publicationPublié - 2013

    Équipement

  • Contient cette citation

    Agouram, S., Terwagne, G., & Bodart, F. (2013). Growth and Characterization of Chromium Oxynitride Thin Films Prepared Using Reactive Unbalanced Magnetron Sputtering in Presence of Air as Reactive Gas. Dans EB. Bentham (Ed.), Metallic oxynitride thin films by reactive sputtering and related deposition methods: processes, properties and applications (p. 133-162)