Effective attenuation length of AlKa excited Si2p photoelectron in SiO2, Al2O3 and HfO2 thin films

Roumen Vitchev, Ch. Defranoux, J. Wolstenholme, Thierry Conard, H. Bender, Jean-Jacques Pireaux

Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticle

langue originaleAnglais
Pages (de - à)37-44
Nombre de pages8
journalJournal of Electronic Spectroscopy and Related Phenomena
Volume149
Numéro de publication12
Etat de la publicationPublié - 2005

Équipement

  • Contient cette citation