DFT Modeling of Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition for Si(110) Passivation: Formation of Boehmite-Like Chains as γ-Al2O3 Precursors

Andrey A. Rybakov, Alexander V. Larin, Daniel P. Vercauteren, Georgy M. Zhidomirov

Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticleRevue par des pairs

Empreinte digitale

Examiner les sujets de recherche de « DFT Modeling of Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition for Si(110) Passivation: Formation of Boehmite-Like Chains as γ-Al2O3 Precursors ». Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.

composés chimiques

Physique & Astronomie