Detailed Atomistic Modeling of Si(110) Passivation by Atomic Layer Deposition of γAl2O3: Chapitre 11

Andrey Rybakov, Alexander Larin, Daniel P. Vercauteren, Georgii M. Zhidomirov

Résultats de recherche: Contribution dans un livre/un catalogue/un rapport/dans les actes d'une conférence › Chapitre (revu par des pairs) › Revue par des pairs

langue originaleAnglais
titrePractical Aspects of Computational Chemistry IV
rédacteurs en chefJ. Leszczynski , M.K. Shukla
Lieu de publicationNew York
EditeurSpringer
Pages303-351
Nombre de pages48
ISBN (Electronique)978-1-4899-7699-4
ISBN (imprimé)978-1-4899-7697-0
Etat de la publicationPublié - 2016

  • PAI n°P7/05 - FS2: Systèmes supramoléculaires fonctionnels (PAI P7/05)

    CHAMPAGNE, B. (Co-investigateur), De Vos, D. (Responsable du Projet), Van der Auweraer, M. (Co-investigateur), Jérôme, C. (Co-investigateur), Lazzaroni, R. (Co-investigateur), Marin, G. (Co-investigateur), Jonas, A. (Co-investigateur), Du Prez, F. (Co-investigateur), Vanderzande, D. (Co-investigateur), Van Tendeloo, G. (Co-investigateur), Van Speybroeck, V. (Co-investigateur), NENON, S. (Chercheur) & STAELENS, N. (Chercheur)

    1/04/12 → 30/09/17

    Projet: Recherche

  • consortium des équipements de calcul intensif

    Champagne, B. (Co-investigateur)

    1/01/11 → 31/12/22

    Projet: Recherche

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