langue originale | Anglais |
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Pages (de - à) | 357-362 |
Nombre de pages | 6 |
journal | Thin Solid Films |
Volume | 355-356 |
Etat de la publication | Publié - 1999 |
Comparative study of thin film physical properties for TiN(x) deposited by DC magnetron sputtering under temperatures less than 100°C on monocrystalline silicon and polycristalline iron substrates
Philippe Roquiny, A. Poulet, Y. Leys, J.-C. Descamps, Franz Bodart, P. Vandenbrande
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