Comparative study of thin film physical properties for TiN(x) deposited by DC magnetron sputtering under temperatures less than 100°C on monocrystalline silicon and polycristalline iron substrates

Philippe Roquiny, A. Poulet, Y. Leys, J.-C. Descamps, Franz Bodart, P. Vandenbrande

    Résultats de recherche: Contribution à un journal/une revueArticle

    langue originaleAnglais
    Pages (de - à)357-362
    Nombre de pages6
    journalThin Solid Films
    Volume355-356
    Etat de la publicationPublié - 1999

    Contient cette citation