Characterization of ytterbium silicide formed in ultra high vacuum

A. Laszcz, J. Ratajczak, A. Czerwinski, J. Katcki, V. Srot, F. Phillipp, P.A. Van Aken, D.A. Yarekha, Nicolas Reckinger, G. Larrieu, E. Dubois

    Résultats de recherche: Contribution à un événement scientifique (non publié)RésuméRevue par des pairs

    langue originaleAnglais
    Etat de la publicationPublié - 2009
    Evénement16th Conference on Microscopy of Semiconducting Material - Oxford, Royaume-Uni
    Durée: 17 mars 200920 mars 2009

    Une conférence

    Une conférence16th Conference on Microscopy of Semiconducting Material
    Pays/TerritoireRoyaume-Uni
    La villeOxford
    période17/03/0920/03/09

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