Characterization of silicon nitride thin films deposited by plasma magnetron

Abdelkrim Batan, Alexis Franquet, Jean Vereecken, François Reniers

    Résultats de recherche: Papier de travailArticle de travail

    langue originaleAnglais
    Etat de la publicationNon publié - 2008

    Contient cette citation

    Batan, A., Franquet, A., Vereecken, J., & Reniers, F. (2008). Characterization of silicon nitride thin films deposited by plasma magnetron.