Analysis of silicides formation for Schottky barrier contacts applications

J. Katcki, J. Ratajczak, A. Laszcz, A. Czerwinski, Nicolas Reckinger, X. Tang, G. Larrieu, N. Breil, D.A. Yarekha, E. Dubois

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langue originaleAnglais
titre7th Polish-Japanese Joint Seminar on Micro and Nano Analysis
Etat de la publicationPublié - 2008

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Katcki, J., Ratajczak, J., Laszcz, A., Czerwinski, A., Reckinger, N., Tang, X., Larrieu, G., Breil, N., Yarekha, D. A., & Dubois, E. (2008). Analysis of silicides formation for Schottky barrier contacts applications. Dans 7th Polish-Japanese Joint Seminar on Micro and Nano Analysis