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Jérémy Brison

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20002013
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Résultat de recherche 2004 2013

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2013

TOF-SIMS depth profiling of multilayer amino-acid films using large Argon cluster Arn+, C60+ and Cs+ sputtering ions: A comparative study

Wehbe, N., Tabarrant, T., Brison, J., Mouhib, T., Delcorte, A., Bertrand, P., Moellers, R., Niehuis, E. & Houssiau, L., 1 janv. 2013, Dans : Surface and interface analysis. 45, 1, p. 178-180 3 p.

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Depth profiling
Argon
Secondary ion mass spectrometry
secondary ion mass spectrometry
Sputtering
2012
bionics
Depth profiling
Ions
ions
Secondary ion mass spectrometry
2009

Cesium redeposition artifacts during low energy ToF-SIMS depth profiling

Vitchev, R. G., Brison, J. & Houssiau, L., 15 juin 2009, Dans : Applied Surface Science. 255, 17, p. 7586-7589 4 p.

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Cesium
Depth profiling
Secondary ion mass spectrometry
Sputtering
Ions
Depth profiling
Xenon
Cesium
Secondary ion mass spectrometry
cesium
2008
Depth profiling
Xenon
Cesium
Secondary ion mass spectrometry
cesium

Depth distribution of Cs implanted into Si at steady-state during dual beam ToF-SIMS profiling

Vitchev, R. G., Brison, J. & Houssiau, L., 15 déc. 2008, Dans : Applied Surface Science. 255, 4, p. 1331-1333 3 p.

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Secondary ion mass spectrometry
Surface segregation
Sputtering
Atoms
2007

Measurement and modeling of work function changes during low energy cesium sputtering

Brison, J., Mine, N., Poisseroux, S., Douhard, B., Vitchev, R. G. & Houssiau, L., 15 mars 2007, Dans : Surface Science. 601, 6, p. 1467-1472 6 p.

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Cesium
cesium
Sputtering
sputtering
Silicon

Molecular depth-profiling of polycarbonate with low-energy Cs+ ions

Mine, N., Douhard, B., Brison, J. & Houssiau, L., 1 janv. 2007, Dans : Rapid Communications in Mass Spectrometry. 21, 16, p. 2680-2684 5 p.

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polycarbonate
Depth profiling
Ions
Polymers
Irradiation
Xenon
Cesium
Secondary ion mass spectrometry
cesium
xenon
2006

An application of cesium-xenon co-sputtering: Quantitative study of a Pd-Rh thin film by ToF-SIMS

Brison, J., Hubert, R., Lucas, S. & Houssiau, L., 1 déc. 2006, Dans : Surface and interface analysis. 38, 12-13, p. 1654-1657 4 p.

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Cesium
Xenon
Secondary ion mass spectrometry
cesium
xenon

Caesium/xenon dual beam depth profiling: Velocity of the sputtered atom and ionization probability

Brison, J., Douhard, B. & Houssiau, L., 30 juil. 2006, Dans : Applied Surface Science. 252, 19, p. 6440-6443 4 p.

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Cesium
Xenon
Depth profiling
Ionization
Atoms

On the understanding and the optimization of ToF-SIMS depth profiles by cosputtering cesium and xenon

Brison, J. & Houssiau, L., 1 déc. 2006, Dans : Surface and interface analysis. 38, 12-13, p. 1715-1719 5 p.

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Cesium
Xenon
Secondary ion mass spectrometry
cesium
xenon

Resonant photoemission study of Ti interaction with GaN surface

Kowalik, I. A., Kowalski, B. J., Kaczor, P., Orlowski, B. A., Lusakowska, E., Johnson, R. L., Houssiau, L., Brison, J., Grzegory, I. & Porowski, S., 15 févr. 2006, Dans : Surface Science. 600, 4, p. 873-879 7 p.

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Photoemission
Valence bands
photoelectric emission
Annealing
valence

Study of the Pd-Rh interdiffusion by ToF-SIMS, RBS and PIXE: Semi-quantitative depth profiles with MCs+ clusters

Brison, J., Hubert, R., Lucas, S. & Houssiau, L., 30 juil. 2006, Dans : Applied Surface Science. 252, 19, p. 7038-7040 3 p.

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Secondary ion mass spectrometry
Cesium
Oncology
Physical vapor deposition
Sputtering

Towards clean and atomically flat ZnO (0001) surfaces

Seldrum, T., COUET, S., Brison, J., MOISSON, C., TUROVER, D., Sporken, R. & Dumont, J., 2006, Dans : Physica Status Solidi C. 3, 4, p. 1051-1054 4 p.

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2005
Secondary ion mass spectrometry
secondary ion mass spectrometry
profiles
Oncology
Calibration
2004

Cesium/xenon dual beam depth profiling with TOF-SIMS: Measurement and modeling of M+, MCs+, and M2Cs2+  yields

Brison, J., Conard, T., Vandervorst, W. & Houssiau, L., 15 juin 2004, Dans : Applied Surface Science. 231-232, p. 749-753 5 p.

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Cesium
Xenon
Depth profiling
Secondary ion mass spectrometry
Ions