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Characterization of a pulsed low pressure argon discharge in a cylindrical magnetron reactor by plasma diagnostic and 3D plasma modeling

Mathioudaki, S., Vandenabeele, C., Tonneau, R., Pflug, A. & Lucas, S., 8 mars 2019, Dans : Journal of Vacuum Science and Technology A. 37, 3, 12 p., 031301.

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Comparison between single monomer versus gas mixture for the deposition of primary amine-rich plasma polymers

Vandenabeele, C., Buddhadasa, M., Girard-Lauriault, P. L. & Snyders, R., 5 août 2016, Dans : Thin Solid Films. 630, p. 100-107 8 p.

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Continuous deposition of organo-chlorinated thin films by atmospheric pressure dielectric barrier discharge in a wire-cylinder configuration

Vandenabeele, C., Maurau, R., Bulou, S., Siffer, F., Gérard, M., Belmonte, T. & Choquet, P., 21 août 2014, Dans : Plasma Processes and Polymers. 11, 11, p. 1089-1101 13 p.

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Organo-Chlorinated Thin Films Deposited by Atmospheric Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for Adhesion Enhancement between Rubber and Zinc-Plated Steel Monofilaments

Vandenabeele, C., Bulou, S., Maurau, R., Siffer, F., Belmonte, T. & Choquet, P., 12 juin 2015, Dans : ACS Applied Materials and Interfaces. 7, 26, p. 14317-14327 11 p.

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Single source precursor vs. precursor mixture for N-rich plasma polymer deposition: Plasma diagnostics and thin film analyses

Buddhadasa, M., Vandenabeele, C., Girard-Lauriault, P. L. & Snyders, R., 15 mai 2017, Dans : Plasma Processes and Polymers . 14, 11, 14 p., 1700030.

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