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Bastien Douhard

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20052009
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composés chimiques

Depth profiling
Ions
Cesium
polycarbonate
Polymers
Sputtering
Atoms
Ionization
Xenon
Polymethyl Methacrylate
Polyvinyl Chloride
Secondary ion mass spectrometry
Scanning tunneling microscopy
Annealing
Sputter deposition
Polyethylene Terephthalates
Ion beams
Ion bombardment
Irradiation
Spectroscopy
Monolayers
Conservation
Positive ions
Deposits
Silicon
Restoration
Cluster analysis
Heavy Ions
Experiments
Biological materials

Ingénierie et Science des Matériaux

Depth profiling
Cesium
Sputtering
Xenon
Ions
Ionization
Secondary ion mass spectrometry
Atoms
Polymers
Polyvinyl chlorides
Scanning tunneling microscopy
Annealing
Sputter deposition
Ion bombardment
Spectroscopy
Polyethylene terephthalates
Monolayers
Conservation
Deposits
Silicon
Positive ions
Silicon wafers
Restoration
Cluster analysis
Experiments
Biological materials
Ion beams

Physique & Astronomie

Chemistry and Materials

cesium
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silicon

Engineering

sputtering
carbon nanotubes
ionization
scanning
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x rays
light sources

Aerospace Sciences

secondary ion mass spectrometry
mass spectroscopy

General

microscopy
scanning tunneling microscopy
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bombardment
restoration

Physics

ions
cesium ions
dichroism
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