Aucune photo de Antoine Fauroux
 

Antoine Fauroux

 https://orcid.org/0000-0002-9635-1758

  • Belgique

  • Source : Scopus
  • Calculé d’après le nombre de publications stockées dans Pure et de citations dans Scopus
20202020

Résultat de recherche par an

Si vous avez apporté des modifications à Pure, elles seront bientôt visibles.

Profil personnel

Présentation

The aim of my PhD at the University of Namur in the LARN department, is to understand through simulations and experimentation the mechanism at stakes when doing magnetron plasma assisted PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) to deposit thin films of amorphous diamond-like carbon. For a number of years these technologically attractive properties have drawn tremendous interest towards these coatings. They are widely used to modify surfaces of materials and improve their tribological properties. 

Diplômes

After a Bachelor in Fundamental Physics at the Paris 7 University (Diderot), I did a Master in Astrophysics with specialization in dynamics of gravitational systems at The Paris-Meudon Observatory.

Qualification académique

Maîtrise de Physique, Observatoire de Paris

Date d'octroi: 7 juil. 2014

Bachelier en sciences appliquées, Universite Paris Diderot

Date d'octroi: 7 juil. 2012

Empreinte digitale

Passez en revue plus en détail les thèmes de recherche où Antoine Fauroux est actif. Ces libellés thématiques proviennent des travaux de cette personne. Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.
  • 19 Profils similaires

Réseau

Collaboration externe récente au niveau des pays. Analysez le détail en cliquant sur les points.
  • 8 Participation à un atelier/workshop, un séminaire, un cours
  • 4 Participation à une conférence, un congrès
  • 1 Participation à un Colloque, une journée d'étude
Votre message a bien été envoyé.
Votre message n’a pas été envoyé en raison d’une erreur.
Si vous avez apporté des modifications à Pure, elles seront bientôt visibles.