Joint international meeting of the electrochemical society

Activité: Participation ou organisation d'un événementParticipation à une conférence, un congrès

Description

Communication orale: "Copper-SilK* semiconductor dielectric interface: XPS surface anlysis and RF plasma treatment of the resin". Co-auteurs: J.-J. Lemaire, A. Rajagopal, C. Gregoire, M.R. Baklanov, S. Vanhaelemeersch, K. Maex & J;-J. Waeterloos
Période17 oct. 199922 oct. 1999
Type d'événementUne conférence
LieuHonolulu, Etats-UnisAfficher sur la carte