Fourth International Conference on Microelectronics and Interfaces (ICMI'03)

Houssiau, L. (Orateur)

Universite de Namur

Activité: Participation ou organisation d'un événement › Participation à une conférence, un congrès

Description

Multitechnique Characterisation of Al₂O₃ Thin Layers Deposited on SiO₂/Si surface by Atomic Layer Chemical Vapour Deposition, communivation orale. Co-au

Période	3 mars 2003 → 6 mars 2003
Type d'événement	Une conférence
Lieu	Santa Clara CA, Etats-UnisAfficher sur la carte