16th International Vacuum congress (IVC-16)

Houssiau, L. (Orateur)

Activité: Types de Participation ou d'organisation d'un événementParticipation à une conférence, un congrès

Description

Characterization of ultrathin high-k HfO2 layers grown on silicon: influence of the deposition parameters and interfacial layer, communication orale. Co-auteurs : R.G. Vitchev, J.-J. Pireaux, T. Conard et
Période28 juin 20042 juil. 2004
Type d'événementUne conférence
LieuVenise, Italie