16th International Vacuum congress (IVC-16)

Roumen Vitchev (Orateur)

Universite de Namur

Activité: Participation ou organisation d'un événement › Participation à une conférence, un congrès

Description

Characterization of ultrathin high-k HfO₂ layers grown on silicon: influence of the deposition parameters and interfacial layer. Co-auteurs : L. Houssiau, J.-J. Pireaux, T. Conard et H. Bender

Période	28 juin 2004 → 2 juil. 2004
Type d'événement	Une conférence
Lieu	Venise, ItalieAfficher sur la carte