Caractérisation de l'interface cuivre-polymère à basse constante diélectrique (SiLK*)
: influence de traitements plasma O2 et N2

  • Jean-Jacques Lemaire

    Student thesis: Master typesMaster in Physics

    Date of Award1999
    Original languageFrench
    SupervisorJean-Jacques Pireaux (Supervisor)

    Cite this

    '